晶圆检测贯穿于半导体晶圆的整个图案化工艺过程。检测对于制程控制非常重要，并且有助于保持高良率。晶圆运动平台至少具有两个线性轴 (X, Y)。伺服轴控制回路利用位置反馈来实现高定位精度。

光学检测头内有高分辨率摄像机，并配备独立的暗场和明场照明源。在自动检测过程中，光学检测头将检测晶圆，然后将拍摄的图像与“标准”或模型参考图像进行比较，以定位缺陷。

RLE平面镜双轴系统

在光学检测头保持静止时，晶圆平台将在不同位置之间快速移动，让光学检测头拍摄被测物体的图像。高性能编码器可实现更快定位，有助于大幅提高检测效率。

激光尺具有亚纳米级位置测量能力，因此扫描电子显微镜 (SEM) 可以在同一个位置上重复叠加多张图像，以进行多层缺陷检查。高性能超高真空 (UHV) 光栅提供粗略的位置反馈，使晶圆平台以极低的扭矩纹波沿预定的扫描路径移动，从而实现平稳的速度控制。

·抖动 ≤ 1nm，以实现卓越的伺服控制、静态和动态稳定性，这是成功进行图像比较和图像拼接的必要条件。

·在指定的点进行非接触式测量，以消除阿贝偏置和机械误差。

·测量系统能够在超高真空环境下运行。

·具有模拟和数字双输出的功能安全 (FS) 型光栅，用于晶圆扫描运动。

半导体检测平台上配有RLE激光尺系统

差分干涉仪发射头 (RLD10) 设计用于直接安装在加工舱的外壁上，采用独特的光学系统，可实现低电子细分误差 (SDE) 和高精度，输出分辨率可达38.6pm。内置的激光准直辅助镜可在安装设定过程中调整俯仰和扭摆角度，从而优化准直过程。

TONiC UHV光栅适用于低至10-10Torr的超高真空条件，提供高达1nm的分辨率和低电子细分误差，有助于实现卓越的运动控制性能。雷尼绍TONiC UHV光栅及附件由真空兼容材料和粘合剂制成，释气率低，适用于许多半导体应用。TONiC UHV光栅系列提供功能安全型号 (SIL2/PLd) 以及模拟和数字双输出选项，以实现摄像机等设备与运动轴的同步移动。对于线性轴应用，雷尼绍提供的栅尺材料包括低膨胀ZeroMet™，可在温度不稳定的环境中实现高精度。

半导体晶圆不仅易碎而且价格昂贵，必须小心处理，以免在制造过程中受损。因此，通常使用晶圆传送机器人在工艺设备内移动半导体晶圆。

晶圆传送机器人具有多个自由度，由机身、多关节机械臂和晶圆夹持工具（托盘）组成。传送机器人通常将晶圆从一个传送室移动到另一个传送室，或者在不同工艺步骤之间移动晶圆，它的吞吐量直接影响半导体工厂的整体性能。

传送机器人的直线和角度运动必须精确，以避免因任何意外接触导致晶圆表面损坏或污染。

机械臂通过电动上臂滑轮和上臂主轴进行控制，这两个部件驱动一系列环形皮带，将机械臂的肩关节与肘关节和腕关节连接起来。

在主从关系中，从电机接收的位置命令由主电机的位置反馈决定。利用高质量的位置反馈，电机能够实现精确协调，从而控制机械臂的运动。

晶圆传送机器人

·能够提供具有低周期误差的高质量位置光栅反馈，以确保极低的扭矩纹波，从而实现平稳的速度控制和高精度。

·具有位置校验算法和附加安全功能，可防止常见故障。

·能够在高运行速度下实现高分辨率的绝对式光栅或增量式光栅。

·具有模拟和数字双输出信号的光栅系统，可同步晶圆夹持器或校准摄像头的操作。

·如适用，请选择适用于超高真空环境的光栅。

TONiC UHV光栅适用于超高真空环境，并通过光学滤波系统和动态信号处理来降低电子细分误差，从而实现高精度运动控制。TONiC UHV和RESOLUTE UHV光栅系列均提供功能安全型号，适用于需要SIL2和PLd功能安全认证的系统。

RESOLUTE UHV绝对式圆光栅和直线光栅系统

同步加速器是一种粒子加速器，它可提供极其强大的X射线源用于科学研究。在实验中，需要采用适当的光束处理技术才能实现先进、高效的应用。在照射实验样品时，通过镜面和斩波器（快门）控制光束轨迹和曝光时间至关重要。

聚焦镜的理想形状是椭球面，但椭球面反射镜很难制造。它的替代方法是利用一对彼此垂直的反射镜在两个维度上聚焦光束，例如著名的柯克帕特里克-贝兹 (K-B) 反射镜系统。

K-B系统通常安装在一系列非真空和真空运动平台上，利用光栅反馈精确地控制反射镜在光束中平移和旋转。由于X射线在每个镜面上的入射角较小，因此只需施加弯曲力便可得到合适的反射镜形状。每个反射镜两端安装的致动器也需要通过光栅反馈来精确地控制反射镜的形状

同步加速器镜的超高真空运动平台

·角度分辨率高达0.1µrad。

·设计坚固耐用，可承受高强度振动。

·适用于超高真空环境，可耐受120℃的高温。