此次我们将重点介绍三款涂层系统，除了大家熟知的Pi411 PLUS, 我们还将推出Pi 111 TRM 和 PL1011 SAT。

Pi111 TRM 采用了 PLATIT 的双旋转磁控阴极技术，可实现致密度高、无液滴的涂层，这对于微小径刀具和铰刀或丝锥等高难度应用至关重要。Pi111 TRM 可确保卓越的涂层性能和灵活性。对于寻求快速、高效、具有最新技术且成本合理的溅射设备的用户来讲，Pi111 TRM是任何先进涂层生产的完美补充。

亮点：

• 高功率旋转阴极

• 高功率脉冲使涂层致密，适用于微小径刀具等高难度应用

• 无液滴的光滑涂层

• 金属和纯陶瓷等低导热材料均可用作靶材

• 双脉冲 HiPIMS 可主动控制脉冲和离子分布 - 还可实现低温工艺

• 高能离子具有足够的能量进入基底空隙

• 高电离度和高能量提高了涂层结合力

PL1011 G4 SAT（至尊电弧技术）采用革命性的双脉冲技术，拥有四个平面电弧阴极和八个弧电源，为 PVD 涂层树立了新的标准。作为 PLATIT 下一代强大的涂层设备，它是大容量涂层中心的骨干设备。

亮点：

• 采用先进的弧电源和增强型阴极技术带来致密的高离化率的等离子体

• 生产率高，涂层沉积时间缩短 30%

• 涂层质量优异，表面更光滑，能最小化液滴的形成

• 优化靶材利用率，提高效率，实现成本效益