邀请函 | 2026真空半导体设备零部件制造技术与工艺研讨会 - 资讯

邀请函 | 2026真空半导体设备零部件制造技术与工艺研讨会

现代制造 2026-09-16

2026真空半导体设备零部件制造技术与工艺研讨会以“精益制造智创未来”为主题，聚焦真空系统核心部件的制造难题，汇聚机床、刀具、测量、软件以及切削液等精密加工要素，搭建产学研用专业的沟通交流平台，共同探讨从材料处理到最终精加工的完整工艺链解决方案，助力行业打通工艺堵点，实现效率与品质双提升。

当前，全球半导体产业正加速向高端化迈进，芯片制程不断微缩、功率密度持续攀升，对装备与零部件的加工精度、良率及运行稳定性提出了越来越严苛的要求。真空半导体装备作为刻蚀、镀膜等核心工艺的载体，其制造水平在很大程度上决定了一个国家半导体产业的竞争力。而真空半导体关键零部件的机械加工，正是装备制造的基础环节——其质量直接关乎核心工艺装备的性能与可靠性。相较于一般机械零件，半导体零部件具有精度高、品种多、工艺复杂及技术门槛高等显著特点，需同时满足强度、耐腐蚀、材料纯度及电磁特性等多重苛刻要求。

真空工艺是刻蚀、镀膜等核心环节的关键支撑技术。真空腔体与真空泵的制造质量，直接决定整套系统的稳定性。腔体需具备复杂内流道、高密封性及优异的抗变形能力；泵内转子则要求达到微米级加工精度，具备复杂曲面成型能力与良好动平衡性能。

向下游延伸，衬底材料的质量直接影响薄膜沉积与刻蚀效果，如SiC、GaN等衬底需兼顾热匹配性与低缺陷密度。引线框架模具作为封装环节的关键工装，其精度与型腔表面质量决定引线框架的成型一致性，进而影响芯片连接可靠性。喷淋头作为刻蚀/镀膜设备中的气体分布核心部件，其微孔加工精度与孔径一致性直接影响工艺均匀性，需达到亚微米级孔位公差及超高洁净度要求。